IN625 Nickel Oinarrizko Aleazio Hautsa Inconel 625 Hautsa

Deskribapen laburra:

Modelo zenbakia:HR-In625

Kolore:grisa

Fluxua:18-23 s/50g

Itxurazko dentsitatea:2,5-3,5 g/cm3

Partikulen tamaina:15-45um, 50-100um, etab.

Ekoizpen Prozesua:Hutsean atomizatutako gasa

Abantaila:oxigeno gutxi, esferiko ona eta fluxu ona

Aplikazio:Laser estaldura, PTA, 3D inprimaketa

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuaren Deskribapena

Huarui tenperatura altuko nikel-oinarritutako IN625 hautsa hauts optimizatua da, bereziki egokia SLM konformazio teknologiarako, besteak beste, EOS Selektiboa Laser Urtze Ekipamendua (EOSINT M Series), Concept Laser Fusion Ekipamendua, Renishaw Laser Urtze Ekipamendua, American 3D Systems Laser Urtze Ekipamendua, eta etxeko ikerketa institutuak eta institutuak.

Partikula tamaina desberdinen banaketaren bidez, injekzio-hautsa, laser estaldura-hautsa, ihinztadura-hautsa, prentsa-hauts isostatiko beroa eta abar ere bana daiteke.

Zehaztapena

Inconel 625 hautsaren konposizio kimikoa (%)
Cr	Co	Al	Mo	Mn	Ti	Nb
20-23	≤1,0	≤0,4	8.0-10	≤0,5	≤0,4	3.15-4.15
Fe	C	Si	P	S	O	Ni
≤0,5	≤0,1	≤0,5	≤0,015	≤0,15	≤0,02	Bal
Itxurazko dentsitatea: 4,50g/cm3			Kolorea: grisa		Forma: esferikoa
Partikulen Tamaina		15-53 mikro;45-105 mikro;45-150 mikrometroa

Inconel 625 hautsaren propietateak
Tamaina sorta	0~25um	0~45um	15 ~ 45um	45~105um	75~180um
Morfologia	Esferikoa	Esferikoa	Esferikoa	Esferikoa	Esferikoa
Partikulen Tamainaren Banaketa	D10: 6um	D10: 9um	D10: 14:00etan	D10: 53um	D10: 78um
	D50:16am	D50: 28um	D50: 35um	D50: 69um	D50: 120um
	D90: 23:00etan	D90: 39um	D90: 45um	D90: 95um	D90: 165um
Fluxu-gaitasuna	N/A	≤30S	≤28S	≤16S	≤18S
Itxurazko Dentsitatea	4,2g/cm3	4,5g/cm3	4,4g/cm3	4,5g/cm3	4,4g/cm3
Oxigeno edukia (% pisua)	O: 0,06 ~ 0,018% pisua, ASTM estandarra: ≤0,02% pisua
3D inprimatzeko gas atomizatutako Inconel 625 hautsa prezio onenarekin
(oxigeno gutxi, esferikotasun handia eta jariakortasun ona)